尊敬的各位老师,你们好!
德国ALLRESIST公司专门从事光刻工艺(紫外或电子束曝光工艺)所需电子化学品的研发、生产和销售。产品覆盖了各种光刻工艺中使用的紫外光学光刻胶、电子束光刻胶、特殊工艺用胶(剥离工艺光刻胶(LOR)、导电胶、耐酸碱刻蚀光刻胶、耐高温光刻胶(聚酰亚胺)等),以及相关工艺中配套的显影液、定影液、稀释剂、除胶剂、增附剂等化学试剂。北京汇德信科技有限公司作为ALLRESIST在中国区的独家代理,将竭诚为您提供优质的产品和专业的技术支持服务。
本期Newsletter为您介绍AR-P 3740高分辨、高对比度紫外正胶,欢迎大家垂询!
3740产品特点:
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3740应用领域:
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产品服务支持:
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Structures 0.5 μmL/S (T 1.1μm) Structures up to 1.0 μm(T 1.8μm) Grating period about 300nm
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产品服务支持:
- 产品种类繁多,提供高质量紫外、电子束及特殊光刻胶及配套试剂
- 包装规格灵活多样(30ml,100ml,250ml,500ml,1L,2.5L等),适合多种规模的科研/生产需求
- 交货周期短,订购流程简单快捷
- 可为用户研发定制特殊功能光刻胶产品
更多光刻胶产品及其应用请详见公司网页www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514,或点击下载:Allresist光刻胶产品彩页。