温度控制系统

我们的阻抗分析仪不仅可以做变频测量，而且可以做变温条件下的材料介电特性的测量。此目标的实现得益于Novocontrol自行研究开发的温度控制系统。

温度控制扩展了介电与阻抗谱的功能，可以由此确定材料特性的很多重要方面，如介电驰豫、电导、相位分离、相位跃迁、激活能、玻璃化温度、混合比率、纯度、老化、加工方法等等。

我们的所有温度系统都由微处理器控制，操作简单、安全、全自动操作。在低频测量中，可以做到在实验的几天里，完成由计算机控制实验过程，无需人员干预及监管。

系统操作可通过前面板或计算机界面。

以下温度控制系统可结合BDS介电与阻抗谱仪使用，即成为我们的Concept系统。Novotherm-HT系统配备了特制的高温样品架，与我们的低频分析仪配合使用。

Quatro Cryosystem 温度控制系统

温度范围：   -160～+400℃ 控温精度：   +/-0.01℃ 升温或冷却速度：  0.01-30℃/min 液氮消耗： 1 L/hr (T>-100℃)

Novocool 温度控制系统

温度范围：   -100～+250℃ 控温精度：   ±0.1℃ 升温或冷却速度：  0.1～20℃/min 液氮消耗： <1.5 L/hr (T>-50℃)

Novotherm 温度控制系统

温度范围：  +20℃～+400℃ 控温精度：  ±0.1℃ 升温或冷却速度：  0.1～50℃/min

^(NEW)Novotherm-HT 温度控制系统（高温炉）

高温控制系统（高温炉），最高达1600 °C，包含一个高温样品架，用于在可控制大气或真空状态下的介电、电导与阻抗测量。

频率范围从直流到 1MHz，结合Alpha，Beta和Alpha-A分析仪使用，除ZGS 和G22，所有test interfaces都适用。

同样可用于低频测量，整个过程计算机控制，几天内无需人员监管。