北京汇德信科技有限公司

脉冲激光沉积系统 PLD

脉冲激光沉积系统

PLD

原位同步加速器

光束衍射/散射 PLD系统

MAPLE 基质辅助

脉冲激光蒸发

脉冲激光沉积系统 PLD


脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition, PLD),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。


SURFACE公司的PLD-Workstation是用于薄膜沉积的先进研发设备,利于探索新材料尤其是高级氧化物。


PLD-Workstation将PLD设备中的所有部件包括准分子激光器和激光气体集成到一个简单的框架内。紧凑的设计确保设备使用灵活,避免了许多安装工作,具有很强的通用性,没有PLD经验的用户也可以轻易上手。


PLD-Workstation
PLD-Workstation


PLD-Workstation将先进的沉积技术融入到功能强大而紧凑的设备中-应用广泛。


  • 全封闭激光光路,从外部调整反射镜等,避免使用者暴露在紫外激光中
  • 准分子激光器和激光气体与外部排气管道相连


真空腔室- 结构灵活


真空腔室专为科研而设计,多个备用法兰用于常规的原位分析工具或系统扩展


  • 光学分析OES 或FTIR
  • RHEED
  • 质谱仪
  • 其他沉积源或等离子体源



羽辉控制- 强大的自动化平台


  • SURFACE 的PLD 设备自动控制整个沉积工艺,设备操作简单
  • 基于Windows 操作系统下LabView 程序编写的PLD 控制软件
  • 多个工艺步骤可合并到一个沉积程序中
  • 直观的工艺过程可视化操作,高度灵活的数据记录和导出,优异的自我测试能力


客户支持


SURFWARE 软件- 先进的客户支持工具


  • 快速联系到SURFACE 支持团队
  • SURFACE 支持工程师可以远程控制PLD 设备,并提供视听支持
  • 快速解决硬件问题和客户的工艺编程问题
  • 软件自动升级


规格


准分子激光器 Coherent COMPexPro 201F or 205F
波长 248 nm
激光气体 20 l 预混气体,10 l 氦气
工艺气体 2x MFC 通道
衬底加热器 2”850 ℃ 或1000 ℃
1”或3”可选
衬底转速 0-50 RPM
靶台 4x2”靶,转速0-50 PRM
控制系统 基于电脑控制,集成的TFT 显示器
IT 特色 局域网连接,SURFWARE 支持软件
设备尺寸 约 2200x850x1600 mm
供电 3x400 VAC/50 Hz 或3x208 VAC/60 Hz
水冷 含水冷机


原位同步加速器光束衍射/散射研究的PLD 系统


同步辐射的衍射和反射是研究薄膜结构和界面的一种重要方法,因为样品不能暴露在大气中,即使是亚单层污染也可能破坏表面效应或改变薄膜性能。SURFACE In-Situ Beamline PLD系统实现了该功能的原位测试。


原位同步加速器光束衍射/散射 PLD 系统
原位同步加速器光束衍射/散射 PLD 系统


它是一个功能齐全的脉冲激光沉积系统,可用于同步加速器光束线。 该系统保持了标准PLD实验室系统的功能性,例如多靶位、高压 RHEED 、1200°C 的激光加热器以及Load lock系统. 并且针对X射线,还具有如下参数:衬底面内旋转±135°,倾斜±5°(分辨率0.001°)、水平 x / y方向距离为 ±6 mm, Z方向距离为 3 mm, 几分钟内快速开关的X射线测角器。控制机架中内置有传送和台升机构,快速定位连接,并且所有功能都可通过远程自动控制。


特点:


  • 功能齐全的原位X射线PLD 系统
  • 紧凑的和集成的传输设计
  • 高分辨率角度变化
  • 激光加热
  • 六个靶位
  • 分体式沉积室设计
  • 带样品存储的集成Load lock


MAPLE基质辅助脉冲激光蒸发


原理:将材料与合适的(即挥发性和吸收紫外线的) 溶剂混合、冷冻,冷冻液类似 PLD中的靶材。通过脉冲激光加热溶剂,将溶剂蒸发并携带待沉积的有机化合物。最后有机化合物沉积在基板上,而挥发性溶剂通过真空泵抽走。


MAPLE基质辅助脉冲激光蒸发
MAPLE基质辅助脉冲激光蒸发


MAPLE 相比旋涂技术,具有更好的有机物薄膜的厚度和形态控制等优势。同时,有机与无机材料的PLD系统相结合,为研究这些材料之间的界面和超晶格开辟新方法!


特点:


  • 实现有机和无机材料的多层结构
  • PLD 和 MAPLE 可结合使用于同一系统
  • 多波长激光设置,获得良好 PLD / MAPLE 波长
  • 根据激光具有三个 LN 2冷却靶和三个氧化物靶位的操纵手
  • 软件控制靶位的灌装和冷冻系统
  • 具有三个注射器的独立液体灌装功能,并可自动注量控制系统
  • 对于 MAPLE,基板加热至 300°C,对于氧化物靶材,可加热至 700°C


 

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