HSQ-光刻胶/SOG

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HSQ (Hydrogen Silsesquioxane Polymers) 是⼀种半导体级纯度的氢倍半硅氧烷聚合物。作为半导体⾏业的⼀种重要材料应⽤于超⾼分辨EUV光刻、电⼦束光刻，以及作为旋涂玻璃层（SOG）应⽤于半导体⾏芯⽚表⾯平坦化层和介电层以及中间层等。

为了满⾜各位⽼师对⾼品质电⼦束光刻胶的需求，汇德信与加拿⼤AQ Materials建⽴深度合作关系，旨在为各位⽼师提供灵活且易于存储的H-SiOx（HSQ）超⾼分辨率电⼦束负胶产品。

AQM开发了⼀种⽅便且通⽤的⽅法来合成电⼦级倍半硅氧烷基（由硅和氧核，H-SiOx组成）树脂。这类聚合物/树脂是⼀款超⾼分辨率的电⼦束负胶⽤于纳⽶电⼦器件制造过程。我们的H-SiOx聚合物拥有适宜的分⼦量，可以在普通有机溶剂（例如甲苯和甲基异丁基酮）中制成均匀的溶液，获得⾼质量薄膜。可以获得具有⼩于10 nm半周期（视光刻胶厚度）的密集图案。

图1 H-SiOx粉末，便于存储

产品特点：

图2 H-SiOx制成的菲涅⽿波带⽚①

成膜性好
高分辨率（<10 nm特征尺寸）
优异的线条边缘粗糙度
良好的耐干蚀刻性能
粉末形式可灵活配制不同厚度
在20°C下具有非常长的保存周期（粉末形式）

H-SiOx具有与经典HSQ相同的超⾼分辨率和优异的耐⼲法刻蚀能⼒。但相⽐于经典HSQ产品以粉末形式存储，保质期更⻓，可根据应⽤灵活配置浓度获得不同胶厚的薄膜。可使⽤通⽤TMAH显影液或者盐显影液进⾏显影⼯艺，分别可获得⾼灵敏度（对⽐度约为4.8）或低灵敏度⾼对⽐度（约为8.7）的结果②，可满⾜不同应⽤场景的需求。

为了更好的服务⼴⼤客户，我们针对H-SiOx产品采取粉末形式交货，延⻓产品的使⽤寿命，客户可根据⾃⼰的实际膜厚需求配置，为⽅便⼤家使⽤，我们免费赠送MOS级MIBK溶剂，以及过滤器，⽅便客户使⽤！

关于H-SiOx超⾼分辨率电⼦束负胶产品，如果您有任何问题或者需要产品资料，请随时联系我们！

参考文献：

① Application of HSQ electron beam resist for silicon photonic applications, courtesy of Applied Nanotools Inc.

② https://doi.org/10.1116/1.5079657

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