紫外光源系统及部件
紫外光源系统
高准直紫外系统可以应用在微电子领域的光刻图形化过程,适合生产和科研应用领域。我们可提供从近紫外至深紫外波段的多种方案光源系统,最大支持12英寸面积(300mm)。
紫外光源系统使用了高性能的光学模组,包含:椭球反射器、热辐射过滤镜、多元件光学积分器和准直器系统。光学积分器的使用可以实现非相干光光照,大大降低由衍射效应引起的不利影响,使曝光系统能够在厚胶表面得到更精细结构。
紫外光源系统应用:
光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化。
紫外光源系统特点:
- 高性能、高均匀性,光源系统
- 近、中、深紫外,不同波长光源可选
- 200W、350W、500W、1000W、2000W,不同功率可选
- 精确控制电功率或光强,高稳定性
- 曝光快门数字控制(0.1-999.9秒),最小控制精度0.1秒
- 高稳定性和免维护设计
- 光源辐照圆形或方形区域可选
- 非相干光消除衍射效应


紫外光源系统图
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Near UV系统 |
Deep UV系统 |
辐照面积 |
100-300mm |
100-300mm |
波长 |
340-450nm |
220-260nm 240-275nm 254-325nm |
功率 |
1000W,2000W,3500W |
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光强均匀性 |
圆形:±5%(标准型);±2.5%(高均匀型) 方形:±6%(标准型);±3.5%(高均匀型) |
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曝光控制 |
0.1-999.9 sec |