紫外光源系统及部件

紫外光源系统

高准直紫外系统可以应用在微电子领域的光刻图形化过程，适合生产和科研应用领域。我们可提供从近紫外至深紫外波段的多种方案光源系统，最大支持12英寸面积（300mm）。

紫外光源系统使用了高性能的光学模组，包含：椭球反射器、热辐射过滤镜、多元件光学积分器和准直器系统。光学积分器的使用可以实现非相干光光照，大大降低由衍射效应引起的不利影响，使曝光系统能够在厚胶表面得到更精细结构。

紫外光源系统应用：

光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化。

紫外光源系统特点：

• 高性能、高均匀性，光源系统
• 近、中、深紫外，不同波长光源可选
• 200W、350W、500W、1000W、2000W，不同功率可选
• 精确控制电功率或光强，高稳定性
• 曝光快门数字控制（0.1-999.9秒），最小控制精度0.1秒
• 高稳定性和免维护设计
• 光源辐照圆形或方形区域可选
• 非相干光消除衍射效应

紫外光源系统图