纳米激光直写光刻系统

激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料（光刻胶）实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写光刻系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到掩模上。

产品特点：

• 我们的纳米激光直写光刻系统利用激光与材料的非线性相互作用，成功突破了光学衍射极限的限制，实现了纳米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直径可达50nm。
• 激光直写光刻系统针对的不仅仅是光刻胶，我们可接受多受体材料：通过高精度的功率调制，可兼容包括金属薄膜、无机相变材料、光刻胶等多种受体材料。
• 可靠易用性：拥有强大的软件功能，支持标量刻写、矢量刻写等多种刻写模式，供用户根据不同的刻写场景而选择。还支持样品刻写后的在线分析，使用户一站式完成设计、刻写、分析等步骤，大大提高了工作效率。

LDW-P系列

纳米激光直写光刻系统 LDW-P系列

• 激光波长：405 nm
• 特征尺寸：100 nm
• 激光功率：120mW 至300 mW（可选）
• 刻写范围：100μm×100μm 至 1500μm×1500 μm（可选）
• 产品描述：LDW-P系列是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统，根据压电平台的移动范围，分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型号，具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征，能广泛适用于各种微纳结构及器件制造、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求，提供定制设计和制造。

LDW-L系列

纳米激光直写光刻系统 LDW-L系列

• 激光波长：405 nm
• 特征尺寸：100 nm
• 激光功率：120mW 至300 mW（可选）
• 刻写范围：50mm×50mm 至 100mm×100 mm（可选）
• 产品描述：LDW-L系列是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工，适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级换代的需求，使产品具有更长的生命周期。

激光直写光刻系统结果示例：