2015年度 Raith获奖作品欣赏及评奖活动规则

为了感谢各位用户对Raith产品的支持， Raith公司每年都举办一次纳米光刻结果评奖活动，以此来促进用户之间的互动、鼓励用户分享具有高技术含量或者趣味性的纳米加工实验结果。

2015年获奖作品已评出，获奖作品如下：

一等奖：

Photonic CNOT quantum gate

Menno Poot, Yale University, USA

二等奖：

Silicon nitride suspended membrane

Alessandro Pitanti, NEST-CNR, Italy

三等奖：

Ring of Plasmonics

Thomas Loeber, TU Kaiserslautern, Germany

2D crystal of artificial gold nanoparticles with quasi-3D shape control

Vitaliy Guzenko, Paul Scherrer Institute, Switzerland

最佳艺术奖：

为了让国内用户更加了解该活动，并促进大家积极参与，在此给您提供评奖活动的相关信息及规则。

参赛资格

所有RAITH用户均可参加

参赛要求

用户需提交三张（或更多）纳米图形的照片，照片需带有描述性文字和简要的研究背景。RAITH接受由于意外因素而得到的独特的纳米图形。

获奖评判标准

纳米结构的独特性

成像的技术水平

图片类型及描述

奖励机制

一等奖：RAITH资助获奖者参加纳米技术相关的会议,包括机票及住宿费用。

二等奖：亚马逊购物卡（金额还未公布，以Raith官方为准） 。

三等奖：亚马逊购物卡（金额还未公布，以Raith官方为准） 。

2016年评奖活动的投稿截止日期目前还没有公布，初步预计在2016年9月份左右，待信息公布后我们会给广大国内用户发信提醒，也请关注北京汇德信及德国Raith公司网站。欢迎国内用户积极准备，踊跃参加，争取赢得大奖。