电子束曝光用导电胶 Electra 92 (AR-PC 5090 / 5091)
原型号：SX AR-PC 5000/90.2

当您在使用导电性差或绝缘材料（如石英、蓝宝石、氧化镁、生物样品等）进行电子显微镜（SEM）成像、电子束曝光（EBL）或聚焦离子束刻蚀（FIB）等科研工作时，是否遇到过下面的难题：

1. 曝光/ 刻蚀/ 成像图形畸变、漂移。
2. 电子束或离子束无法“照射”到样品上，不能进行正常的曝光/ 刻蚀/ 成像。
3. 样品放电。

……

造成以上现象的主要原因是样品表面的荷电效应（充电效应）。对于导体材料来说，其荷电效应几乎可以自身消除；但是当您使用导电性差或绝缘材料时，材料本身无法迅速有效地将积累在表面的带电粒子转移，而产生局部区域内的电荷积累，这种局部区域内的电荷积累在样品表面形成了非均匀的静电场，对后续的电子束产生横向的排斥，继而产生上述问题。

德国Allresist公司推出了一款性能优异、操作简单、经济实惠的产品（AR-PC 5090 / 5091导电胶），可有效地帮您解决以上问题。

产品特点：

• 可有效消除电子显微成像、电子束曝光、离子束加工等工艺中的荷电效应；
• 不影响电子束曝光参数，无需重新摸索曝光条件；
• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料；
• 电子显微（SEM）成像后，导电聚合物可用水洗掉，样品可重复使用；
• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单；
• 对紫外光、电子束等不敏感，容易储存；
• 包装规格多样(30ml, 100ml, 250ml, 1L, 2.5L等)，适合不同规模的科研和生产需要；
• 购买流程方便快捷，帮您省去繁琐的清关流程；

电子束曝光（EBL）应用实例：

Line width down to about 20nm in HSQ on quartz substrates	200nm Ti/gold squares with 5μm spacing in PMMA on glass

扫描电子显微（SEM）成像应用：

Images of highly insulating polymer structures (coated with Electra 92, AR-PC 5090.02) in SEM 注：成像观察后导电聚合物可使用水洗掉，样品可重复利用。

导电胶使用流程(EBL)：

旋涂电子束光刻胶	旋涂导电胶AR-PC 5090.02	电子束曝光
去除导电胶(水洗)	显影

更多光刻胶产品，请查询：www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514，或联系我们，获取更多详细资料和报价。