- AR-P 3740 高分辨率紫外正性光刻胶
- 邀您参观：第十七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
- 邀您参观：2024慕尼黑上海光博会
- 祝贺我们的光刻胶厂商Allresist GmbH成立30周年！
- 订货送礼活动！庆祝公司成立20周年
- 庆祝北京汇德信科技有限公司成立20周年！
- SEMICON China 2018，邀您参观
- Raith China开业典礼暨晚宴活动
- 电子束曝光用导电胶 Electra 92 (AR-PC 5090 / 5091)
原型号：SX AR-PC 5000/90.2 - PHECOS温度控制系统——无需消耗液氮
- SEMICON China 2017，邀您参观
- 杨氏模量无损测量服务
- 极紫外光栅结构
- 2016年度RAITH电子束光刻作品评选活动开始啦
- 三维表面形貌仪——适用于工业及科研
- Newsletter：Temicon 纳米压印模板
- SEMICON China 2016，邀您参观
- 2015年度 Raith获奖作品欣赏及评奖活动规则
- 第五届Raith中国区用户会圆满结束
新闻中心
厂商分类
微纳制造与加工技术
系统- 高分辨紫外/深紫外光刻机
- 扫描针尖电子束光刻机（SPL）
- CERES微纳金属3D打印系统
- 桌面型纳米压印机
- 去胶机（微波等离子去胶机）
- 微波等离子清洗机
- 微生产（组装）系统
- 德国Zoz Simoloyer® 系列
高能球磨机
组件
真空和薄膜生长技术
系统材料检测及测量技术
实验样品及耗材
┗ 光栅
测试及加工服务
扫码咨询光刻胶、模板
扫码咨询红外测温仪、单晶、靶材
扫码咨询介电阻抗谱、杨氏模量无损测量