光刻胶/抗蚀剂-产品特点

Allresist光刻胶特点

产品特点：

1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。

产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等）

2.  光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。

包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。

3.  交货时间短。

我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。

4.  可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力。

5.  储存条件：

密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。

储存在适当的温度下。

详情请联系我们的销售人员。