光刻胶/抗蚀剂-维基百科

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PART Ⅰ. Concerning Photoresist

1. 光刻胶的成分及工作原理是什么？
2. 紫外光刻胶的保质期及储存条件是什么？
3. 储存时间如何影响紫外光刻胶质量？
4. 对紫外光刻胶而言，适宜的衬底预处理方法是什么？
5. 紫外光刻胶在不同的衬底上粘附性如何？
6. 获得好质量膜的适宜涂胶条件是什么？
7. 为什么在涂胶过程中会产生气泡，如何避免？
8. 涂胶后紫外光刻胶进行前烘过程的作用是什么？
9. 紫外光刻胶是如何曝光的？如何确定适宜曝光剂量？在曝光之前，前烘后的衬底能保存被保存多长时间？
10. 如何选择适宜的显影液？显影过程中，哪些因素会影响最终显影结果？
11. 紫外光刻胶如何去除？
12. 保护胶有什么用途？
13. 图像反转光刻胶是如何工作的？
14. 通过使用单层或双层工艺，如何获得undercut结构（lift-off结构）？
15. 对于大于10μm的厚胶，如何处理才是适宜的工艺条件？
16. 紫外光刻胶能达到怎样的分辨率和对比度？
17. 紫外光刻胶的耐等离子体刻蚀能力如何？
18. 紫外光刻胶的耐强酸腐蚀能力如何？
19. 哪一种光刻胶适用于氢氟酸（HF）刻蚀？
20. 紫外光刻胶在不同试剂中的耐溶剂性如何？

PART Ⅱ. Concerning E-beam resist

1. 电子束光刻胶的成分及工作原理是什么？
2. 电子束光刻胶的保质期及储存条件的稳定工作期有多长，保存条件是什么？
3. 对电子束光刻胶而言，适宜的衬底预处理方法是什么？
4. 电子束光刻胶在不同的衬底上粘附性如何？
5. 电子束光刻胶是如何曝光的，如何确定适宜曝光剂量？
6. 如何选择适宜的显影液？显影过程中，哪些因素会影响最终显影结果？
7. 电子束光刻胶如何去除？
8. 电子束光刻胶可以达到怎样的精度分辨率？
9. 电子束光刻胶的耐等离子体刻蚀能力如何
10. 电子束光刻胶耐强酸腐蚀的能力如何？
11. 电子束光刻胶在不同试剂中的耐溶剂性如何？